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通过激光直写技术制造光子设备:SEM如何作出贡献

 发布时间:2017/11/14 点击量:995
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光子设备被广泛应用于自然科学中,用于制造,操作和探测光。在未来,制造先进的光子设备将是一种挑战,并需要灵活性和可调谐性。因为它们需要先进的三维光刻技术, 制造这些设备并非易事。激光直写技术(DLW)是一种有趣的方式,它的目标是运用液态晶体光刻胶作为感光材料。

 

在这篇博客中, 我们将描述用于生产人造橡胶光学可调谐光子设备的光刻胶是如何进行特殊设计和测试的,以及如何用扫描电子显微镜(SEM)来帮助设计改进过程。

 

1: 激光直写流程(DWL): i) 光束聚焦,ii) 激光书写,iii) 开发和iv) 完成结构 (A. Selimis et al, Microelectronic Engineering, 132 (2015), 83-89)。

 

2: 左边的SEM显微图和线条放大的图像,是通过不同的激光功率和书写速度获得的。

 

3: 使用不同的光功率和不同光刻胶(a – c)、 特定结构放大图(d和e)的扫描电子显微镜的结构图案,并放大图像。标尺为10µm。

 

4:圆柱形结构的SEM图像,用于研究光刻胶的光响应。标尺寸为 10µm。

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