在材料科学与微观分析的探索中,科研人员往往面临着一个两难的选择:是追求落地式场发射电镜(FE-SEM)的高分辨率,忍受其庞大的体积、苛刻的环境要求和复杂的制样流程?还是妥协于普通台式电镜的便捷,却在成像质量上止步不前?
荷兰飞纳(Phenom) 给出的答案是:不妥协。
Phenom Pharos G2 台式场发射电镜的出现,打破了“高性能"与“小体积"不可兼得的。作为搭载肖特基场发射电子源(Schottky FEG)的台式扫描电镜,它将科研级的分辨率装进了桌面级的机身里,让微观世界的探索变得自由与高效。
1. 核心突破:低电压下的超高清晰
传统的钨灯丝电镜在低电压下往往成像模糊,而 Pharos G2 得益于高亮度的肖特基场发射电子源,展现了惊人的物理性能。
分辨率优于 1 nm:这不仅是数据的提升,更是视野的质变。
低电压成像优势:即使在低加速电压下,依然能获得锐利图像。这意味着对于绝缘材料、聚合物、生物组织等对电子束敏感的样品,能够显著降低热损伤和穿透效应,还原最真实的表面细节。
2. 效率革命:告别繁琐,即刻成像
在分秒必争的研发与质检现场,时间就是成本。Pharos G2 将“用户体验"提升到了新的维度:
无需喷金,直接观测:内置的真空锁设计与低真空模式,允许直接观察不导电样品。告别费时的金属镀膜前处理,保留样品原始状态。
15秒极速抽真空:从放入样品到出图,仅需一杯咖啡抿一口的时间。
全自动化操作:结合彩色光学显微镜导航与自动马达样品台,30分钟即可培训上手。无论是专家还是实习生,都能轻松驾驭。
3. 集成:形貌与成分的一站式分析
它不仅仅是一台显微镜,更是一个微观分析工作站。设备集成了三大核心功能,无需切换设备即可完成完整表征:
背散射电子成像 (BSE):快速判断成分分布与衬度。
二次电子成像 (SE):清晰捕捉表面形貌与立体结构。
集成能谱分析 (EDS):高速、稳定地进行元素成分定性与定量分析。
4. 稳如磐石:适应各种复杂环境
不同于落地式电镜对安装环境的“挑剔",Pharos G2 专为适应性而生。
免防震台设计:内置 27 组独立减震模块,有效隔离环境震动。无论是拥挤的学校实验室、繁忙的企业研发室,还是空间狭小的办公区,它都能稳定运行。
免维护电子光路:免调节、免对中设计,极大降低了后期维护难度与成本,确保了设备长期运行的一致性。
适用领域与应用场景
Pharos G2 的多功能性使其成为跨学科研究的理想伙伴:
新能源与锂电:正负极粉末形貌分析、隔膜微孔结构观测。
半导体与微电子:晶圆缺陷检测、封装工艺验证。
材料科学:金属断口分析、纳米陶瓷微观结构、高分子复合材料研究。
生物与制药:生物组织结构观察、药物微球分析。
为什么选择 Phenom Pharos G2?
在同类产品中,Pharos G2 以其独特的定位解决了传统电镜的痛点:
特性 | 传统落地式 FE-SEM | 普通台式 SEM | Phenom Pharos G2 |
电子源 | 场发射 (FEG) | 钨灯丝/六硼化镧 | 肖特基场发射 (FEG) |
分辨率 | 超高 (<1nm) | 一般 (>3nm) | 科研级 (<1nm,STEM模式) |
占地面积 | 需要独立机房 | 桌面级 | 桌面级 (无需机房) |
抽真空时间 | 3-5 分钟 | 1-3 分钟 | < 15 秒 |
防震要求 | 超高 (需防震台) | 一般 | 内置防震 (适应性强) |
Pharos G2 不仅仅是一台设备,它是连接宏观制造与微观机理的桥梁,让科研级的分析能力触手可及。
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