技术原理：

电子源技术
采用肖特基场发射或热场发射电子枪，通过强电场使金属电子脱离束缚，形成高亮度、高相干性的电子束。其亮度远超传统热发射电子枪，束斑直径可小于1nm，显著提升成像分辨率。

电子光学系统
电子束经电磁透镜聚焦、偏转后形成细小探针，在样品表面逐行扫描，产生二次电子、背散射电子等信号。这些信号被探测器收集并处理，生成反映样品形貌、成分的图像。

真空系统
维持高真空环境，防止电子束散射和样品污染，确保信号稳定性。部分型号支持低真空模式，可直接观察含水或非导电样品。

台式场发射扫描电镜的性能参数：

分辨率：二次电子像分辨率可达1.0nm，部分型号在低电压（1kV）下仍能保持1.4nm分辨率，适合观察绝缘或电子束敏感样品。

放大倍数：可高达100万倍，覆盖从宏观形貌到纳米结构的分析需求。

加速电压：范围通常为0.2-30kV，支持低电压成像以减少样品损伤。

探测器：标配二次电子探测器（SE）、背散射电子探测器（BSE）及能谱仪（EDS），可同步进行形貌观察与元素分析。

样品台：支持大尺寸样品，部分型号配备倾斜旋转功能，实现多角度观察。