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分享台式离子研磨抛光仪研磨系统的组成

 更新时间:2023-08-03 点击量:697
台式离子研磨抛光仪 SEMPrep2 作为新一代的高精密氩离子研磨系统,可以满足研究人员苛刻的研磨需求。集成式多功能截面抛削以及无损平面抛光系统,为 SEM 以及 EBSD 用户提供好的制样助力。
台式离子研磨抛光仪的研磨系统主要由以下几个部分组成:  
1.研磨盘:研磨盘是台式离子研磨抛光仪的核心部件,通常由金属材料制成,表面具有一定的粗糙度。研磨盘上可以安装研磨纸或研磨布,用于进行研磨和抛光操作。  
2.研磨液供给系统:研磨液供给系统用于提供研磨液,研磨液通常由水和研磨剂混合而成。研磨液的作用是冷却研磨盘和样品,同时还可以起到清洁和润滑的作用。  
3.研磨头:研磨头是连接研磨盘和样品的部件,通常由金属材料制成。研磨头可以调节研磨盘和样品之间的接触力和研磨速度,以达到不同研磨要求。  
4.控制系统:控制系统用于控制研磨盘和样品的运动,包括研磨盘的转速、样品的旋转和移动等。控制系统还可以设置研磨时间和研磨力度等参数,以满足不同的研磨需求。  
5.真空系统:真空系统用于在研磨过程中排除空气,以减少样品表面的氧化和污染。真空系统通常包括真空泵和真空室,可以通过控制真空度来调节研磨过程中的气氛。  
6.监测系统:监测系统用于监测研磨过程中的参数,如研磨力度、研磨速度、研磨温度等。监测系统可以通过传感器和仪器来实现,可以实时监测和记录研磨过程中的数据。  
以上就是台式离子研磨抛光仪的研磨系统的主要组成部分,不同厂家和型号的仪器可能会有所差异,但基本原理和功能是相似的。

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